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高輝度放射光で解き明かすシリコン酸化膜の成長過程 ~ナノデバイスの世界を支配する界面欠陥とキャリア捕獲~(プレスリリース) — SPring-8 Web Site

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高輝度放射光で解き明かすシリコン酸化膜の成長過程 ~ナノデバイスの世界を支配する界面欠陥とキャリア捕獲~(プレスリリース) — SPring-8  Web Site高輝度放射光で解き明かすシリコン酸化膜の成長過程 ~ナノデバイスの世界を支配する界面欠陥とキャリア捕獲~(プレスリリース) — SPring-8 Web Site,デバイス技術/ナノ材料の評価技術 | KIOXIA - Japan (日本語)デバイス技術/ナノ材料の評価技術 | KIOXIA - Japan (日本語),UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発 | Science TokyoUVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発 | Science Tokyo,Wafer-scale growth of 2D SnSx hybrid films on germanium by atomic layer  deposition for broadband photodetection - ScienceDirectWafer-scale growth of 2D SnSx hybrid films on germanium by atomic layer deposition for broadband photodetection - ScienceDirect,UVナノインプリントを活用しシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発:研究開発の最前線 - MONOistUVナノインプリントを活用しシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発:研究開発の最前線 - MONOist,

 

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